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第83章 时间紧迫提前囤积零件(第2页)

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别看这位“林工”

年轻,他在光刻领域的成就与造诣,早已经远在场所有人。

然而。

就在这时。

赶了最近一班飞机,连夜飞回来的冯承铭开口道:“如果用氧化铬做为抗反射层,也能消除大部分的驻波效应?”

“嗯。”

林天点了点头,脱口而出道:“用氧化铬做为抗反射层,厚度2o纳米,可以有效解决驻波效应。”

冯承铭:“为什么是2o纳米?”

“2o纳米的厚度,已经可以解决大部分驻波效应,21纳米,用不上,19纳米不够用。”

林天淡淡回答道。

两人的一问一答,让默默观看的陈星惊叹,红色品质人才果然有点变态啊!

舌战群儒,有问必答。

“刚才说话的那个老头,就是龙芯国际的光刻席。”

曲程压低了几分音量介绍道。

“原来是他。”

陈星忍不住笑了笑,这位老爷子可太传奇了。

吹个牛逼,把一群院士都唬住,如果能证实可以利用多重曝光技术实现14纳米芯片,那他吹的牛也算实现了。

“制造光掩膜版的时间比较漫长,单次流片的时间都要1到3天,我建议陈总还是不要等了,公司可不能没有你。”

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